从今天开始 ,写给小白我们聊聊芯片的片封普封装和测试(通常简称“封测”)。
这一部分 ,装入在行业里也被称为后道(Back End)工序,门科一般都是写给小白由OSAT封测厂(Outsourced Semiconductor Assembly and Test,外包半导体封装与测试)负责。片封普 封装的装入目的先说封装。 封装这个词 ,门科其实我们经常会听到。写给小白它主要是片封普指把晶圆上的裸芯片(晶粒)变成最终成品芯片的过程。免费模板
之所以要做封装,装入主要目的门科有两个。 一个是写给小白对脆弱的晶粒进行保护,防止物理磕碰损伤,片封普也防止空气中的装入杂质腐蚀晶粒的电路。 二是让芯片更适应使用场景的要求。 芯片有很多的应用场景。不同的源码库场景,对芯片的外型有不同的要求 。进行合适的封装 ,能够让芯片更好地工作。
我们平时会看到很多种外型的芯片,其实就是不同的封装类型 封装的发展阶段封装工艺伴随芯片的出现而出现,迄今为止已有70多年的历史 。模板下载 总的来看,封装工艺一共经历了五个发展阶段:
接下来 ,我们一个个来说。 传统封装最早期的晶体管 ,采用的是TO(晶体管封装)。后来,发展出了DIP(双列直插封装) 。
我们最熟悉的三极管造型 ,就是TO封装 再后来,由PHILIP公司开发出了SOP(小外型封装) ,源码下载并逐渐派生出SOJ(J型引脚小外形封装)、TSOP(薄小外形封装)、VSOP(甚小外形封装)、SSOP(缩小型SOP) 、TSSOP(薄的缩小型SOP)及SOT(小外形晶体管)、SOIC(小外形集成电路)等。
DIP内部构造 第一、第二阶段(1960-1990年)的封装 ,以通孔插装类封装(THP)以及表面贴装类封装(SMP)为主,属于传统封装。 传统封装,主要依靠引线将晶粒与外界建立电气连接 。
这些传统封装 ,直到现在仍比较常见 。亿华云尤其是一些老的经典型号芯片,对性能和体积要求不高 ,仍会采用这种低成本的封装方式 。
第三阶段(1990-2000年) ,IT技术革命加速普及 ,芯片功能越来越复杂 ,需要更多的针脚。电子产品小型化,又要求芯片的体积继续缩小。 这时,BGA(球型矩阵、建站模板球栅阵列)封装开始出现 ,并成为主流。 BGA仍属于传统封装 。它的接脚位于芯片下方 ,数量庞大,非常适合需要大量接点的芯片。而且,相比DIP ,BGA的体积更为紧凑 ,非常适合需要小型化设备 。
BGA封装
BGA封装内部 和BGA有些类似的,还有LGA(平面网格阵列封装)和PGA(插针网格阵列封装)。大家应该注意到了 ,我们最熟悉的CPU,就是这三种封装 。
20世纪末 ,芯片级封装(CSP)、晶圆级封装(WLP)、倒装封装(Flip Chip)开始慢慢崛起。传统封装开始向先进封装演变 。 相比于BGA这样的封装 ,芯片级封装(CSP)强调的是尺寸的更小型化(封装面积不超过芯片面积的1.2倍) 。
封装的层级(来自Skhynix) 晶圆级封装是芯片级封装的一种,封装的尺寸接近裸芯片大小 。 下期我们讲具体工艺的时候,会提到封装包括了一个切割工艺 。传统封装,是先切割晶圆 ,再封装 。而晶圆级封装,是先封装,再切割晶圆 ,流程不一样。
晶圆级封装 倒装封装(Flip Chip)的发明时间很早。1960年代的时候,IBM就发明了这个技术 。但是直到1990年代 ,这个技术才开始普及 。 采用倒装封装,就是不再用金属线进行连接 ,而是把晶圆直接反过来,通过晶圆上的凸点(Bump),与基板进行电气连接。 和传统金属线方式相比,倒装封装的I/O(输入/输出)通道数更多,互连长度缩短 ,电性能更好。另外,在散热和封装尺寸方面,倒装封装也有优势。
先进封装的出现,迎合了当时时代发展的需求。 它采用先进的设计和工艺,对芯片进行封装级重构,带来了更多的引脚数量 、更小的体积、更高的系统集成度,能够大幅提升系统的性能。 进入21世纪后,随着移动通信和互联网革命的进一步爆发 ,促进芯片封装进一步朝着高性能、小型化、低成本、高可靠性等方向发展。先进封装技术开始进入高速发展的阶段 。 这一时期,芯片内部布局开始从二维向三维空间发展(将多个晶粒塞在一起),陆续出现了2.5D/3D封装 、硅通孔(TSV)、重布线层(RDL)、扇入(Fan-In)/扇出(Fan-Out)型晶圆级封装 、系统级封装(SiP)等先进技术 。
当芯片制程发展逐渐触及摩尔定律的底线时,这些先进的封装技术 ,就成了延续摩尔定律的“救命稻草”。 先进封装的关键技术2.5D/3D封装2.5D和3D封装,都是对芯片进行堆叠封装 。 2.5D封装技术,可以将两种或更多类型的芯片放入单个封装,同时让信号横向传送,这样可以提升封装的尺寸和性能。 最广泛使用的2.5D封装方法,是通过硅中介层(Interposer)将内存和逻辑芯片(GPU或CPU等)放入单个封装。 2.5D封装需要用到硅通孔(TSV)、重布线层(RDL)、微型凸块等核心技术。
3D封装是在同一个封装体内,于垂直方向叠放两个以上芯片的封装技术。
2.5D和3D封装的主要区别在于: 2.5D封装,是在Interposer上进行布线和打孔 。而3D封装 ,是直接在芯片上打孔和布线,连接上下层芯片堆叠。相对来说,3D封装的要求更高 ,难度更大。 2.5D和3D封装起源于FLASH存储器(NOR/NAND)及SDRAM的需求 。大名鼎鼎的HBM(High Bandwidth Memory,高带宽存储器) ,就是2.5D和3D封装的典型应用。将HBM和GPU进行整合,能够进一步发挥GPU的性能 。
HBM,对于GPU很重要 ,对AI也很重要 HBM通过硅通孔等先进封装工艺,垂直堆叠多个DRAM ,并在Interposer上与GPU封装在一起。HBM内部的DRAM堆叠,属于3D封装。而HBM与GPU合封于Interposer上,属于2.5D封装。 现在业界很多厂商推出的新技术,例如CoWoS 、HBM 、Co-EMIB、HMC 、Wide-IO 、Foveros、SoIC、X-Cube等 ,都是由2.5D和3D封装演变而来的 。 系统级封装(SiP)大家应该都听说过SoC(System on Chip ,系统级芯片)。我们手机里面那个主芯片,就是SoC芯片。 SoC ,简单来说 ,是将多个原本具有不同功能的芯片整合设计到一颗单一的芯片中 。这样可以最大程度地缩小体积,实现高度集成。 但是 ,SoC的设计难度很大,同时还需要获得其他厂商的IP(intellectual property)授权,增加了成本 。
SiP(System In Packet,系统级封装),和SoC就不一样 。 SiP将多个芯片直接拿来用 ,以并排或叠加的方式(2.5D/3D封装) ,封装在一个单一的封装体内。 尽管SiP没有SoC那样高的集成度 ,但也够用 ,也能减少尺寸 ,最主要是更灵活 、更低成本(避免了繁琐的IP授权步骤)。 业界常说的Chiplet(小芯粒、小芯片),其实就是SiP的思路 ,将一类满足特定功能的裸片(die),通过die-to-die的内部互联技术,互联形成大芯片 。 硅通孔(TSV)前面反复提到了硅通孔(through silicon via,TSV,也叫硅穿孔)。 所谓硅通孔 ,其实原理也挺简单 ,就是在硅介质层上刻蚀垂直通孔,并填充金属 ,实现上下层的垂直连接,也就实现了电气连接。
由于垂直互连线的距离最短 、强度较高 ,所以 ,硅通孔可以更容易实现小型化、高密度、高性能等优点 ,非常适合叠加封装(3D封装)。 硅通孔的具体工艺 ,我们下期再做介绍 。 重布线层(RDL)RDL是在芯片表面沉积金属层和相应的介电层 ,形成金属导线 ,并将IO端口重新设计到新的 、更宽敞的区域,形成表面阵列布局 ,实现芯片与基板之间的连接 。
RDL技术 说白了,就是在硅介质层里面重新连线,确保上下两层的电气连通 。在3D封装中 ,如果上下堆叠的是不同类型的芯片(接口不对齐),则需要通过RDL重布线层,将上下层芯片的IO进行对准 。
如果说TSV实现了Z平面的延伸,那么 ,重布线层(RDL)技术则实现了X-Y平面进行延伸。业界的很多技术,例如WLCSP、FOWLP、INFO 、FOPLP 、EMIB等,都是基于RDL技术。 扇入(Fan-In)/扇出(Fan-Out)型晶圆级封装WLP(晶圆级封装)可分为扇入型晶圆级封装(Fan-In WLP)和扇出型晶圆级封装(Fan-Out WLP)两大类。 扇入型直接在晶圆上进行封装,封装完成后进行切割 ,布线均在芯片尺寸内完成,封装大小和芯片尺寸相同。
扇出型则基于晶圆重构技术 ,将切割后的各芯片重新布置到人工载板上。然后,进行晶圆级封装 ,最后再切割 。布线可在芯片内和芯片外,得到的封装面积一般大于芯片面积,但可提供的IO数量增加。 目前量产最多的,是扇出型产品。 以上,小枣君尽可能简单地介绍了一些封装的背景知识。 |